特種氣體是由兩大類氣體組成的。一類為單元高純氣體,另一類為混合氣體。到目前為止,特種氣體中單元純氣體共有260種。其中，電子氣體共114種,占總數的43.8%(實際常用的約44種);有機氣體共65種,占總數的25%;無機氣體共35種,占總數的13.4%;鹵碳素氣體共29種,占總數的11%;同位素氣體共17種,占總數的6.8%
接下來就讓小編來介紹一下，這260種單元高純特種氣體的用途。
1.氮氣-N2,純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2.氧氣-O2,>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫療氣；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。
3.氬氣-Ar,>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氫。
4.氫氣-H2,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學、冶金等工業中也有用。
5.氦氣-He,>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。
6.氯氣-Cl2,>99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、游泳池的衛生處理；制備許多化學產品。
7.氟氣-F2,>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。
8.氨氣-NH3,>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。
9.氯化氫-HCI,>99.995%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。
10.一氧化氮-NO,>99%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監控大氣污染的標準混合氣。
11.二氧化碳-CO2,>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。
12.氧化亞氮-N2O,(即笑氣),>99.999%,用作標準氣、醫療氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。
13.硫化氫-H2S,>99.999%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。
14.四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。
15.氰化氫-HCN,>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。
16.碳酰氟-COF2,>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用作氟化劑。
17.碳酰硫-COS,>99.99%,用作校正氣；用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。
18.碘化氫-HI,>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。
19.嗅化氫-HBr,>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。
20.硅烷-SiH4,>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。
21.乙硅烷-Si2H6,>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。
22.磷烷-PH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。
23.砷烷-AsH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。
24.硼烷-B2H6,>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序；用于有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。
25.鍺烷-GeH4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。
26.銻烷-SbH3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。
27.四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。
28.乙烷-C2H6,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；還用于冶金工業的熱處理,化學工業中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。
29.丙烷-C3H8,>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。
30.硒化氫-H2Se,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
31.碲化氫-H2Te,>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
32二氯二氫硅-SiH2Cl2,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
33.三氯氫硅-SiHCl3,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
34.二甲基碲-(CH3)2Te,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
35.二乙基碲-(C2H5)2Te,>99.999%,用途同(34)。
36.二甲基鋅(CH5)2Zn,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。
37.二乙基鋅(C2H5)2Zn,>99.999%,用途同(36)。
38.三氯化磷-PCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機物的良好氯化劑；也用于含磷有機物的合成。
39.三氯化砷-AsCl3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。
40.三氯化硼-BCl3,>99.99%,用于等離子干刻、擴散；作硼載氣及一些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。
41.四氯化硅-SiCl4,>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
42.四氯化錫-SnCl4,>99.99%,用于外延、離子注入。
43.四氯化鍺-GeCl4,>99.999%,用于離子注入。
44.四氯化欽-TiCl4,>99.99%,用于等離子干刻。
45.五氯化磷-PCl5,>99.99%,用于外延、離子注入。
46.五氯化銻-Sb=Cl5,>99.99%,用于外延、離子注入。
47.六氯化鑰-MoCl6,>99.9%,用于化學氣相淀積。
48.三嗅化硼-BBr3,>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。
49.三嗅化磷-PBr3,>99.99%,用于外延、離子注入。
50.磷酞氯-POCI3,>99.999%,用于擴散工序。
51.三氟化硼-BF3,>99.99%,用于離子注入；另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。
52.三氟化磷-PF3,>99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。
53.三氟化砷-AsF3,>99.9%,用途同(52)。
54.二氟化氨-XeF2,>99.9%,用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。
55.三氟氯甲烷-CClF3,(R-13),>99.995%,用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調均可用。
56.三氟甲烷-CHF3,(R-23),>99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。
57.三氟化氮-NF3>99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進劑、氟化劑。
58.三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1),>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。
59.三氟化硼-11-B11F3,>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。
60.四氟化碳-CF4,(R-14),>99.99%,用于等離子干刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。
61.四氟化硫-SF4,>98%,用于等離子干刻工序;氟化劑、表面處理劑。
62.四氟化硅-SiF4,>99.99%,用于化學氣相淀積工序;制備氟硅酸及其鹽類。
63.四氟化鍺-GeF4,>99.999%,用于離子注入工序。
64.五氟化磷-PF5,>99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。
65.五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115),>99.99%,用于等離子干刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。
66.五氟化砷-AsF5,>99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。
67.六氟乙烷-C2F6,(R-116),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調;單體生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。
68.六氟化硫-SF6,>99.99%,用作標準氣;用于化學氣相淀積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。
69.六氟化鎢-WF6,>99.99%,用于化學氣相淀積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。
70.六氟化氧-(CF3)2O2,>99.99%,用于等離子干刻工序。
71.六氟乙酰-(CF3)2CO,>99.99%,用途同(70)。
72.六氟乙酞氧-(CF3CO)2O,>99.99%,用途同(70)。
73.六氟化錸-ReF6,>97%,用于離子注入工序;氟化劑。
74.八氟丙烷-C3F8,(R-218),>99.9%,用于等離子干刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。
75.八氟環丁烷-C4F8,(RC318),>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣。
76.十二氟戊烷-C5F12,>99.9%,用于等離子干刻工序;也可與CF4相混用。
77.三甲基鋁-(CH3)3Al,>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
78.三甲基鎵-(CH3)3Ga>99.999%,用途同(77)。
79.三甲基銻-(CH3)3Sb,>99.999%,用途同(77)。
80.三甲基錮-(CH3)3In,>99.999%,用途同(77)。
81.三乙基鋁-(C2H5)3Al,>99.999%,用途同(77)。
82.三乙基鎵-(C2H5)3Ga,>99.999%,用途同(77)。
83.四乙基鉛-(C2H5)4Pb,>99.999%,用于化學氣相淀積工序。
84.丙烯腈-C3H3N,>99.9%,用于等離子干刻工序。
85.1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3,>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服干洗,冷凍劑,殺菌劑。
86.甲烷-CH4,99.999%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。
87.甲烷硫醇-CH3SH,>99.5%,用作標準氣、校正氣;用于有機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。
88.一甲胺-CH3NH2,>99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等,并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。
89.甲醇-CH3OH,>99.9%,用作標準氣,與空氣混合后作校正氣;用于制備甲醛和農藥鄉用于有機物質的萃取劑和酒精的變性劑。
90.二甲胺-(CH3)2NH,>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速劑等。
91.二甲醚-(CH3)2O,>99.9%,在化學工業中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。
92.乙炔-C2H2,>99.9%,用作標準氣、校正氣;化學工業中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。
93.乙烯-C2H4,>99.99%,用作在線儀表標準氣、標準氣、校正氣;是化學
工業合成中的重要原料,生產塑料的中間體,生產乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。94.氧化乙烯-C2H4O,99.9%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業中用作中間體,生產液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。
95.溴代乙烯-C2H3Br,>99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。
96.一乙胺-CH3CH2NH2,>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業制備中的中間體:著色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。
97.四氟乙烯-C2F4,>99%,在生產塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。
98.乙醛-CH5CHO,>99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。
99.二甲基二硫醚-CH3S2CH3,＞99.9%,用作校正氣、溶劑。
100.二甲基硫醚-CH3SCH3>99.9%,用作校正氣、溶劑。
101.乙醇-C2H5OH,>99.9%,用作校正氣;用于溶劑,制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。
102.乙酰氯-CH3COCl,99.99%,用于乙?；瘎┖突瘜W試制。
103.1-羥亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7,>99.99%,簡稱HEDPA,用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環境衛生;在石油和氣田中用作防腐劑。
104.環丙烷-(CH2)3,>99%,用于有機合成;醫藥上作麻醉劑。
105.甲基乙炔-C3H4>99%,用作在線儀表標準氣、校正氣;用于制備丙酮;化學工業中作合成中間體。
106.六氟丙酮-CF3COCF3,>99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發生化學反應,用這些酮類可制備不同的產品,如穩定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農業及藥物產品。
107.三甲胺-(CH3)3N,>99%,用作標準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理;在化學工業中作中間體,用來生產殺蟲劑、潤濕劑、發泡劑、合成樹脂等表面活性劑。
108.丙烯-C3H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;在化學工業上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。
109.丙二烯-C3H4,99%,在線儀表標準氣;用于有機合成中間體。
110.氧化丙烯-C3H6O,>99.9%,(又稱1,2-環氧丙烷),用于制備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。
111.甲基乙烯醚-CH3COCH3,>99.5%,用作標準氣;用于有機合成中間體;塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生產。
112.六氟丙烯-C3F6,>99.9%,用于有機合成中間體。
113.丙酰氯-CH3CH2COCl,＞99.9%,用于制備鹽酸、丙酸;用作氧化劑。
114.正丁烷-C4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁烷混合用;化學工業中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。
115.異丁烷-iC4H10,>99.99%,用作標準氣、校正氣;用途同(114)。
116.乙基乙炔C4H5,>99%,用作標準氣、校正氣;化學工業中作為合成中間體。
117.環丁烷-(CH2)4,>99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。
118.丁烯-1-C4H8,>99.9%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯。
119.順丁烯-2C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。
120.反丁烯-2-C4H8,>99%,用作標準氣、校正氣;用途同(119)。
121.順與反丁烯-2-C4H8,>99%,用作校正氣;用途同(119)。塑料和樹脂,生產尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。
122.1,3丁二烯-C4H6,>99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生產尼龍-66;也是火箭燃料組成部分
123.異丁烯-iC4H8,>99.9%,用作校正氣,用于有機中間體,使氧化產生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等;也可用來制備合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的絕緣體。
124.八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯),>99.5%,用于有機合成中間體。
125.二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5,99.99%,一接觸到氧化劑,反應劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸反應。
126.正戊烷-C5H12,>99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
127.異戊烷-iC5H12,>99%,用作校正氣;用途同(126)。
128.2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷),>99.9%,是生產異丁烯的原料,用于生產合成丁烯橡膠。
129.3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯),>99.95%,用于有機合成中間體;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。
130.特戊酰氯-(CH3)3CCOCl,>99.99%,可制備氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。
131.苯-C5H6,>99.999%,用作標準氣、校正氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。
132.己烷-C6H14,>99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑。
133.三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3,>99.99%,用于合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。
134.環己烷-C6H12,>99.99%,用作標準氣;用于制備環己醇和環己酮;用于合成耐6;在涂料工業中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。
135.己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl,>99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。
136.甲苯-C7H8,,>99.99%,用作零點氣、校正氣;用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等;也用作溶劑。
137.苯乙烯-C8H8,,>99.9%,用作校正氣;用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。
138.2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl,>99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。
